鎂鋁合金靶材：精密鍍膜背后的關(guān)鍵材料

在真空鍍膜領(lǐng)域，鎂鋁合金靶材正成為精密涂層制備的核心材料。
這種特殊合金通過磁控濺射技術(shù)，能在玻璃、半導(dǎo)體等基材表面形成納米級薄膜，賦予材料全新的表面特性。

鎂鋁合金靶材的獨特優(yōu)勢在于其雙金屬協(xié)同效應(yīng)。
鎂元素密度低且化學(xué)活性高，鋁元素延展性好且成本適中，兩者復(fù)合后既保持了輕量化特性，又顯著提升了鍍膜層的耐蝕性和機械強度。
通過調(diào)整鎂鋁比例在30%-70%之間的配比，可以精確調(diào)控薄膜的光學(xué)性能和導(dǎo)電性，滿足不同應(yīng)用場景的需求。

制備工藝直接影響靶材性能。
采用真空熔煉結(jié)合熱等靜壓成型技術(shù)，可獲得密度超過98%的致密靶材。
特殊的晶粒細(xì)化處理能使晶粒尺寸控制在20微米以下，確保濺射過程中粒子均勻濺射。
值得注意的是，鎂鋁合金極易氧化，全程需在氬氣保護環(huán)境下完成加工，這對生產(chǎn)設(shè)備的密封性提出了嚴(yán)苛要求。

當(dāng)前該材料在三個領(lǐng)域展現(xiàn)突出價值：光伏產(chǎn)業(yè)用其制備減反射涂層，提升太陽能板光電轉(zhuǎn)換效率；消費電子領(lǐng)域用于手機中框的PVD鍍膜，兼顧美觀與耐磨；航空航天部件表面處理中，鎂鋁薄膜能有效阻隔基體金屬腐蝕。
隨著柔性顯示技術(shù)的發(fā)展，可彎曲的鎂鋁氧化物透明導(dǎo)電膜成為研究熱點。

行業(yè)面臨的主要挑戰(zhàn)在于突破濺射速率與薄膜均勻性的矛盾。
較新研究發(fā)現(xiàn)，引入稀土元素微合金化可改善靶材濺射性能，將沉積速率提升30%的同時保持膜厚偏差小于5%。
未來，3D打印技術(shù)有望實現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)靶材的一體成型，這或?qū)氐赘淖儌鹘y(tǒng)靶材的制造方式。